光刻胶市场需求日渐增加,以北京科华、晶瑞电材为代表的国内半导体光刻胶企业正在加速产品研发导入。



根据势银(TrendBank)预测,2022年中国半导体光刻胶市场规模将达到39.3亿元,同比增长35%。


众所周知,光刻胶作为光刻过程的关键耗材,因其高壁垒、高价值量的特点,目前主要被日本、韩国和欧美国家垄断,特别是ArF浸润式(28nm及以下)以及EUV等关键节点,是半导体国产化的一道大坎。但随着未来五年中国大陆晶圆厂的扩建趋势,光刻胶的市场需求也将持续增加。


在国家扶持半导体和光刻胶材料的政策背景下,国内光刻胶行业面临半导体产业链蓬勃发展的历史性机遇,上下游企业配合联动,有望加快半导体光刻胶的研发进程和产品导入,实现新突破。


近年来,以北京科华、晶瑞电材、上海新阳为代表的国内半导体光刻胶企业正在为突破“卡脖子”难题而努力,并在验证量产等环节上都有了不同进展。随着部分企业的最新财报出炉,势银膜链特别整理多家涉及半导体光刻胶产业链的企业(包含初步布局企业)近一年进展。


*以下企业按官方披露信息时间排序

 

彤程新材


彤程新材料集团股份有限公司(以下简称彤程新材)是全球领先的新材料综合服务商。2020年,彤程新材收购了北京科华部分股权,现已成为其第一大股东。


彤程新材G线光刻胶2021年市占率达60%;I线光刻胶和KrF光刻胶批量供应于中芯国际、华虹宏力、长江存储、华力微电子、武汉新芯、华润上华等13家12寸客户和17家8寸客户。


KrF光刻胶方面,用于TM/TV及IMP的KMPDK1089系列产品取得了市场的广泛认可,成为市场上同类产品的主要品牌。 


I线光刻胶方面,公司新购NikonI-14曝光机投入使用,极大提升了北京科华8-12寸产线用I线光刻胶的开发速度;化学放大型I线光刻胶膜厚可覆盖15-25um,可用于先进封装等厚胶工艺,解决了厚膜胶感光速度、分辨率及抗刻蚀性能问题。


关于半导体光刻胶在建项目,彤程新材在今年年初曾表示,“年产1.1万吨半导体、平板显示用光刻胶及2万吨相关配套试剂项目”已进入洁净间及机电设备的安装高峰,预计2022年6-7月份能完成全部建设,将在下半年开始进入试生产,并开展不同品种产品的客户验证;“ArF高端光刻胶研发平台建设项目”预计于2023年末建设完成。但受疫情影响,整体的上海光刻胶基地建设进度将推迟1~2月。

 


北京科华


北京科华微电子材料有限公司(以下简称北京科华)产品类型覆盖KrF(248nm)、G/I线(含宽谱);Lift-off工艺使用的负胶;用于分立器件的BP系列等,是国内领先的半导体光刻胶龙头生产商。

 

来源:北京科华


北京科华拥有百吨级环化橡胶系紫外负性光刻胶和千吨级负性光刻胶配套试剂生产线、G/I线正胶生产线(500 吨/年)和正胶配套试剂生产线(1000 吨/年)、百吨级248nm光刻胶生产线。


目前,I线光刻胶已接近国际先进水平,其种类涵盖国内14nm以上大部分工艺需求;KrF产品在Poly、AA、Metal等关键层工艺完成了重大突破,获得客户批量使用;同时TM/TV、Thick、Implant、ContactHole等工艺市占率持续提升。


 

飞凯材料


上海飞凯材料科技股份有限公司(以下简称飞凯材料)是一家研究、生产、销售高科技制造中使用的材料和特种化学品的企业。目前,公司的光刻胶产品包含显示面板用光刻胶和半导体光刻胶。


今年4月,飞凯材料透露半导体光刻胶配套Barc材料目前已完成一家12寸线客户导入验证工作,且已形成少量销售。此外在近期的业绩说明会上,飞凯材料表示半导体光刻胶已于今年一季度通过验证,并且取得了少量销售;i-line光刻胶产品已通过验证并有小批量订单。

 

 


南大光电


江苏南大光电材料股份有限公司(以下简称南大光电)是一家专业从事高纯电子材料研发、生产和销售的高新技术企业。2017年,承担了集成电路芯片制造用关键核心材料之一的193nm光刻胶材料的研发与产业化项,并形成了MO源、电子特气、ALD/CVD前驱体材料和光刻胶四大业务板块。

 

来源:南大光电


据南大光电最新财报显示,公司正在自主研发和产业化的ArF光刻胶(包含干式及浸没式)可以达到90nm-14nm的集成电路工艺节点;已建成年产25吨的ArF光刻胶产品(包括干式和浸没式)生产线,研发的ArF光刻胶产品分别通过一家存储芯片制造企业的50nm闪存平台和一家逻辑芯片制造企业55nm技术节点上验证,为ArF光刻胶的规模化量产奠定基础。


此外,其在今年透露,公司ArF光刻胶有小批量订单,尚未规模量产。




上海新阳


上海新阳半导体材料股份有限公司(以下简称上海新阳)的主要产品是半导体晶圆制造及先进封装用电镀液及添加剂、半导体晶圆制造用清洗剂、半导体封装用电子化学材料、半导体制造用高端光刻胶产品、半导体配套设备产品。


据上海新阳最新财报显示,公司KrF光刻胶已实现销售;集成电路制造用高端光刻胶产品正在开发中,包括逻辑和模拟芯片制造用的I线光刻胶、KrF光刻胶、ArF干法光刻胶,存储芯片制造用的KrF厚膜光刻胶,底部抗反射膜(BARC)等配套材料。


今年3月,上海新阳表示,公司光刻胶规划产能513吨。此外,krF光刻胶暂规划产能为230吨,已经拿到部分晶圆制造客户订单;ArF光刻胶处于验证阶段;EUV光刻胶刚起步,尚在开发中。

 



晶瑞电材


晶瑞电子材料股份有限公司(以下简称晶瑞电材)主要产品包括超净高纯试剂、光刻胶、功能性材料、锂电池材料等。子公司苏州瑞红拥有负型光刻胶系列、宽谱正胶系列、g线系列、i线光刻胶系列、KrF光刻胶系列等数十个型号产品,ArF光刻胶的研发工作有序开展中。


据晶瑞电材透露,近期购得KrF光刻机一台,用于光刻胶的曝光测试,加上此前已购得的负胶、g线、i线、ArF光刻机,目前共到位5台光刻机。


目前,晶瑞电材ArF光刻胶的研发工作有序开展中;i线光刻胶已向国内中芯国际、合肥长鑫等知名大尺寸半导体厂商供货;KrF(248nm深紫外)光刻胶产品分辨率达到了0.25~0.13µm的技术要求,目前已完成中试,建成了中试示范线,目前已进入客户测试阶段,KrF光刻胶量产化生产线计划2022年形成批量供货。

 



徐州博康


徐州博康信息化学品有限公司(以下简称徐州博康)成立于2010年,是集研发、生产、经营中高端光刻胶、光刻胶单体和光刻胶树脂为主的国家专精特新“小巨人”高新技术企业。公司目前拥有193nm/248nm光刻胶单体、193nm/248nm光刻胶、G线/I线光刻胶、电子束光刻胶等产品。徐州博康1100吨光刻材料新工厂已于2021年底正式投产,成功建成了包含电子级溶剂,光刻胶单体,树脂及光刻胶的一体化光刻胶生产体系。

 

来源:徐州博康


徐州博康ARF光刻胶自2019年起开始生产销售,目前有多款干法湿法ARF光刻胶已完成技术开发,正在多家国内大客户先进工艺线上评估验证,主要针对65nm至28nm技术节点,预计在下半年有机会形成销售。


在KrF光刻胶领域,徐州博康2021年实现销售额超千万,主要应用于8寸IDM及主流代工大客户;同时,公司高分辨率产品(CD 120nm-160nm)也正在12寸厂客户端进行评估验证中。另外,公司的Iline化学放大胶已顺利完成国内存储制造客户评估认证并正式生产供应。

 



理硕科技


苏州理硕科技有限公司(以下简称理硕科技)是一家从事多种光刻胶及光刻工艺产品的研发、生产、销售的高科技企业。公司目前研发中的产品包括平板显示器用TFT光刻胶和PSPI光刻胶,半导体芯片用i线光刻胶等。


理硕科技在2021年完成了将近十种i线半导体光刻胶的研发;已接近开发完成的i-line厚膜光刻胶产品的内部评测已完成,正在进行客户评测;有3款产品取得中科院下属晶圆代工厂验证通过,目前部分产品在中x等大型晶圆代工厂进行验证。


据理硕科技王晓伟透露,目前受制于上海苏州疫情影响,验证进度暂缓。

 



艾森半导体



江苏艾森半导体材料股份有限公司(以下简称艾森半导体)为晶圆制造、半导体封装、显示面板等应用领域提供可持续发展的高端电子化学品,产品包括电镀液、光刻胶以及相关配套试剂。


艾森半导体拥有昆山和南通两个工厂。其中,昆山工厂拥有标准化化工厂房和生产高纯化学品的净化车间;15000平方米的南通工厂已建设完成,目前处在试生产阶段。公司Wafer、OLED用光刻胶及配套高纯化学品等将在南通工厂进行生产。另外,公司正在昆划建设15000平方米的集成电路材料测试中心,主要用于各类集成电路制造和封测材料的验证及测试。


艾森半导体拟科创板上市,目前处于上市辅导阶段,预计2023年完成科创板挂牌上市。

 



泓光半导体



福建泓光半导体材料有限公司(以下简称泓光半导体)为恒坤股份旗下子公司,致力于集成电路高端光刻胶的研发和生产。项目总投资4.5亿,其中一期投资1.5亿元,已于2020年5月正式量产出货。


2021年4月,泓光半导体材料二期项目在漳州举行项目签约仪式,项目总投资2.5亿元,泓光半导体将在漳州高新区投资开发“集成电路制造用各种高端光刻胶以及配套材料”,形成自主研发及规模化生产能力。据了解,目前厂区正在建设中。

 



国科天骥



国科天骥(滨州)新材料有限责任公司(以下简称国科天骥)依托中国科学院化学研究所和理化技术研究所的顶尖材料、化学专家团队,致力于打造新材料、新技术的创新孵化平台。


2021年4月,国科天骥“光刻胶滨州生产园区交付暨试生产仪式”在山东滨州经济技术开发区举行。该项目投产后将主要用于芯片核心材料——高档光刻胶的研发生产。项目一期建成后可达到年产2000L超高精细光刻胶的生产规模,二期建成后可达到年产15000L超高精细光刻胶的生产规模。




广州微纳光刻


广州微纳光刻材料科技有限公司(以下简称广州微纳光刻)是专业开发90nm-55nm制程高端半导体芯片制造用193nm光刻胶及相关材料的高科技公司,为中芯国际、广州粤芯公司等客户定制光刻胶。


广州微纳光刻目前主要开发了90nm和55nm节点的ArF光刻胶样品,90nm节点的光刻胶有很好的线宽粗糙度,55nm节点的高宽比可达3.2:1,同复旦大学微电子学院邓海教授课题组有深度合作,其以OEM形式进行代工生产,和广东/嘉兴两家化工生产企业签订了代工协议。

 



源:势银膜链




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